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| 年度 | 105 |
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| 專利名稱 | 微光學結構的製造方法 |
| 專利國別 | 中華民國 |
| 發明人 | 楊啟榮 |
| 共同發明人 | 張淑芳、蔡宗翰、吳思賢 |
| 核准證號 | I531051 |
| 屬性 | 本校 |
| 研發單位 | 電機工程學系 |
| 專利簡介 | 一種微光學結構的製造方法，包含以下步驟：(A)在一基板的表面形成多個相互間隔的光阻層；(B)於基板與光阻層的表面形成一表面處理層，該表面處理層具疏水性或疏油性；(C)移除該等光阻層以及位於該等光阻層表面的該表面處理層；(D)灌注一透光的光學膠材於該基板與未被移除的該表面處理層上，使光學膠材根據表面處理層的疏水性或疏油性，而自動填充於未被移除的表面處理層之間；及(E)固化該光學膠材，而形成多個微光學結構。 |
| 專利期限 | 2034-01-22 |
| 技術領域 | 電機工程 |
| 適用產業別 |
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| 技術應用方式與預期產品說明 | 本發明提供一種可解決現存技術問題的微光學結構的製造方法。 |
| 關鍵字1 | 光學結構 |
